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高纯化学品行业解决方案





湿电子化学品,又称超净高纯试剂或工艺化学品,是指主体成分纯度大于 99.99%,杂质离子和微粒数符合严格要求的化学试剂。主要以上游硫酸、 盐酸、 氢氟酸、 氨水、 氢氧化钠、 氢氧化钾、 乙醇、 异丙醇等为原料,经过预处理、 过滤、 提纯等工艺生产得到的高纯度产品。湿电子化学品是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料,是电子技术与化工材料相结合的创新产物,具有技术门槛高、资金投入大、产品更新换代快等特点。湿电子化学品按用途主要分为通用化学品和功能性化学品两类。其中通用化学品以高纯溶剂为主,例如氧化氢、氢氟酸、硫酸、磷酸、盐酸、硝酸等;功能性化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的配方类或复配类化学品,主要包括显影液、剥离液、清洗液、刻蚀液等。湿电子化学品目前广泛应用在半导体、平板显示、太阳能电池等多个领域,其中液晶面板领域增速快。即按下游产品应用的工艺环节分,主要有平板显示制造工艺的应用、半导体制造工艺的应用及太阳能电池板制造工艺的应用。



全球电子材料和化学品市场过去形成了三足鼎立之态势,分别是欧美,日本,以及除日本之外的亚洲其他国家或地区企业。由于集成电路材料在下游成本中占比不大,但对产品性能影响却很大,因此下游客户对产品价格敏感度不高,更看重产品的质量、稳定性,存在很高的技术壁垒,我国的电子材料和化学品依赖度非常高,特别是在高端产品制造中所涉及的功能性化学品,我国自给率不足 20%。 2010 年国内统计数据显示,湿电子化学品消耗总量约为 18 万吨/年,硫酸约占27%~33%,双氧水约占8%~22%,氨水约占 8%,盐酸约占 3%~8%,其他酸(包括硝酸、醋酸、氢氟酸和磷酸等)约占 10%~20%,刻蚀剂约占 12%~20%,有机溶剂约占 10%~15%。随着半导体行业的发展,湿电子化学品需求量逐年不断增加,预计至 2020 年国内应用于半导体行业、平板行业的湿电子化学品需求量将超过 80 万吨,综上所述,在超净高纯试剂中 H2SO4、 HF、 HNO3、 HCl 和醋酸等酸性溶液,NH3•H2O 和 KOH 等碱性溶液, H2O2 等氧化溶液, IPA 等有机溶液均存在加大范围的应用。
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